台湾安可立「ACL-UP1810硅芯片级抛光树脂」高纯度(TOC≦5ppb)凝胶型均匀颗粒，混和型树脂。该产品作用在生产用水及超纯水的最终抛光选择。用途：混合型抛光树脂应用于半导体设备和其他电子级产品。优势：高纯度、低TOC、产生极低有机或无机物杂质波漏。项目强酸阳离子树脂(H+)强硷阴离子树脂(OH-)总交换容量≥1.8eg/L≥1.0eg/L阳阴树脂体积比1:1.5含水率44(H+)56(OH-)探水水质探水水质达18MΩ-cm以上TOC测试出水≤5ppbSiO2测试出水≤3ppb建议操作条件操作温度15~25℃最小床深900mm体积流速30~50 BV/h线性流速120m/h at 35~50℃建议入水条件入水水质>17MΩ-cm入水总有机碳浓度(TOC)<20ppb【注】树脂可作用于建议数据以外，但结果可能不是最佳的。

随着科技的日新月异，半导体行业的发展愈发显得至关重要。在这个领域中，一种名为抛光树脂的材料在加工过程中扮演着举足轻重的角色。本文旨在深入探讨半导体抛光树脂的本质、关键技术和应用，并引领读者领略这一领域的无限魅力。 一、引言 抛光树脂是一种高分子化合物，具有独特的物理和化学性质。它被广泛应用于半导体器件制造过程中的表面处理环节，以实现晶圆表面的光滑与平整。作为一种介于传统磨料和超精细研磨剂之间的新型材料，抛光树脂以其卓越的性能优势，在全球范围内备受瞩目。 二、关键技术和研发难点 1.选择性吸附技术：为了确保抛光过程中不损伤硅片和其他敏感元件，抛光树脂需要具备良好的选择性吸附能力，以便精确地识别并去除目标物质。 2.可控磨损技术：理想的抛光树脂应能在较低的压力下实现高效的抛光效果，同时保证磨损程度最小化，从而降低设备损耗及维护成本。 3.自适应调整技术：根据不同的应用场景，抛光树脂需具备自动调节其粘度、硬度等特性的能力，以满足多样化的需求。 三、应用前景展望 作为半导体产业不可或缺的一环，抛光树脂在未来将继续发挥重要作用。除了传统的集成电路领域外，新兴的量子计算、生物芯片等领域也将成为抛光树脂的应用蓝海。此外，环保、节能等因素也促使业界不断优化抛光树脂配方，使其兼具高性能和绿色可持续的特点。 四、结语 总而言之，半导体抛光树脂虽是一项细分领域内的关键技术，但其所蕴含的价值不容小觑。面对未来的机遇与挑战，科研人员将不懈努力，持续突破抛光树脂的技术瓶颈，为推动半导体行业的蓬勃发展贡献宝贵力量。

半导体行业中的超纯水，又名UP水，主要是半导体原材料生产加工、检测和半导体器件的制备用水。电子元器件对超纯水使用水质要求高。市场环境变化使得元器件尺寸缩小与精细度上升，使得超纯水水质与水量的技术指标不断提升。 超纯水制备主要包括以下三个阶段，即初步吸附过滤阶段、反渗透净化阶段和树脂离子交换阶段。 其中，离子交换即是将水中的正离子与离子交换树脂中的H+离子交换，水中的负离子与离子交换树脂中的OH-离子交换，从而达到纯化水的目的。具体说来主要有以下步骤： 1、原水：可用自来水或普通蒸馏水或普通去离子水作原水。 2、预处理系统：原水箱、原水泵、杀菌剂、石英砂过滤器、活性炭过滤器、换热器、阻垢剂系统。 3、双级反渗透系统：保安过滤器、高压泵RO、反渗透系统。反渗透膜可滤除95%以上的电解质和大分子化合物，包括胶体微粒和病毒等。由于绝大多数离子的去除，使离子交换柱的使用寿命大大延长。 4、EDI系统：EDI的作用就是通过除去电解质（包括弱电解质）的过程，将水的电阻率从0.05～1.0MΩ·cm提高到5～16MΩ·cm。 5、抛光树脂：无化学析出的核子级树脂，去除纯水中残余的微量带电离子及弱电解质，使水质达到18MΩ·cm以上。 6、终端超滤：能有效地去除水中的微粒、胶体、细菌、热源和有机物力。是整套系统最后的防火墙，确保产出的高纯水不受二次污染。安可立根据项目具体需求，结合项目整体实际情况，采用超纯水抛光树脂工艺，灵活运用离子交换技术，利用两端电极高压使水中带电离子移动，并配合离子交换树脂加速离子移动去除，达到水纯化的目的。在这个工艺流程中，经过离子交换出水水质的高低主要取决于离子交换树脂的质量和交换柱内水与树脂的交换效率。科海思采用超纯水抛光树脂MB-106UP，它是由核子级强酸型阳离子Tulsimer ® T-46Li 及核子级强碱型阴离子 Tulsimer ® A-33OH 以1:2 体积比的剂量比例 , 预先混合的混床级离子交换树脂,专门提供给超纯水系统抛光用。它具有交换容量及优越的物理特性。整个项目单罐运行，出水电导率做到了18MΩ以上，并且运行效果非常稳定。 

什么是超纯水？超纯水又称UP水（25℃下电阻率达到18MΩ·cm），是一种既能将水中的导电介质几乎完全去除，又能将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。这种水除了含有水分子（H2O）外，几乎不存在杂质，常在集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水。 抛光树脂实现超纯水的连续供应抛光树脂是由氢型强酸性阳离子交换树脂及氢氧型强碱性阴离子交换树脂混合而成，一般用于超纯水处理系统的末端，来保证系统出水水质能够维持用水标准，并且对TOC、SiO2都有一定的控制能力。经过抛光树脂后的离子型态皆为H+和OH-，装填后即可使用无需再生。可是也存在一个问题：当抛光树脂使用一段时间后会达到饱和，传统流程会将树脂直接作为废弃物委外处理，如此会带来一定的资源浪费。安可立一直致力于环保事业，作为全球最大的环保公司之一，我们早在上个世纪就开始研发抛光树脂再生技术，拥有30多年处理离子交换树脂的经验，巧妙地解决了树脂浪费的问题。目前，我们的再生树脂服务保证即用型移动式容器的质量控制以及生产现场的树脂更换的需求，可提供四大去离子服务产品和移动水服务，并且已服务于全球6家FAB工厂以及100多家微电子企业。为减少环境污染、减少废弃物处理成本和提高树脂利用率，实现更好的超纯水供应过程，我们可为用户提供再生树脂服务，包括：高速超纯水树脂冲洗；紧急服务（SOS水）；回收失效树脂；备用设备和去离子水供应，便于厂区维护，避免停机造成的损失；现场树脂填充。                           安可立安可立企业是一家专业研发和生产硅芯片级抛光树脂、工业用逆渗透(RO)膜的领先企业。本公司位于台湾，并在全球范围内提供其创新和高品质的产品。自创立以来，安可立一直致力于透过创新技术，提供解决业界挑战的产品和服务。我们的主要产品是硅芯片级抛光树脂、工业用逆渗透(RO)膜，这是一种半导体技术，能有效地除去水中的杂质和污染物，使其达到工业生产的用水标准。我们的硅芯片级抛光树脂、RO膜技术已在全球范围内获得广泛的认可，并被用于各种工业应用，包括但不限于食品和饮料制造、药品制造、化工和电子工业。安可立公司采用最先进的制造工艺和严格的品质控制，以确保我们的产品能够满足甚至超越客户的期望。我们的研发团队不断创新，以提高硅芯片级抛光树脂、RO膜的效率和耐用性，并减少对环境的影响。除了提供优质的产品，安可立公司还致力于提供一流的客户服务。我们的专业团队拥有深厚的技术知识和丰富的实战经验，能够为客户提供专业的技术支援和解决方案，帮助他们解决水处理的难题。

人们常说的抛光树脂一般用于超纯水处理系统末端，来保证系统出水水质能够维持用水标准。一般出水水质都能达到18兆欧以上，以及对TOC、SIO2都有一定的控制能力。抛光树脂出厂的离子型态都是H、OH型，装填后即可使用无需再生。一般用于半导体行业。罗门哈斯生产的树脂很多种，能分别满足电力、电子、化工等不同行业水处理的需求，此外还广泛应用于冶金、医药、食品、催化等行业。在核电站一回路、二回路水处理和凝结水处理方面拥有独特的技术，特别是用于核电站的高纯度树脂领域。进口罗门哈斯树脂由于税运、需求紧俏等因素，价格确实会比国内同等型号的树脂产品稍高，但是罗门哈斯树脂效果好、转换程度高等特点，能够大大地降低使用成本。罗门哈斯树脂不同的型号，价格都是不一样的，便宜的有十几元1L，贵的有几十元，特种树脂价格就更高了。经过市场调研和技术分析，台湾安可立研发的ACL-UP2011阴阳离子交换树脂产品可以作为UP6150的替代品，安可立ACL-UP2011是一种经离子均衡化后的混床树脂，它是由强阳离子交换树脂与强阴离子交换树脂混合而成，可直接使用于制程。 ACL-UP2011被用来生产超纯水，它可适用于所有需要 TOC、二氧化硅含量低、无二氧化碳的除矿水处理。