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在半导体行业，"洁净"不仅是一种要求，更是一种生存法则。随着制程技术不断迈向3nm、2nm甚至更先进的节点，晶圆制造对环境洁净度和制程水质提出了前所未有的标准。在这背后，支撑晶圆厂日常运作的**超纯水系统（UPW）**扮演着至关重要的角色，而维持超纯水品质的关键材料之一，正是——阴阳离子交换树脂。

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离子交换树脂在晶圆制造中的作用

阴阳离子交换树脂是一类具有可交换功能基团的高分子材料，能够去除水中的带电离子杂质，如钠、钙、镁、氯离子、硫酸根等。其主要作用如下：

• 用于超纯水（UPW）系统终端净化：提升水的电阻率至18.2 MΩ·cm以上

• 去除TOC（总有机碳）和微量金属杂质：保障光刻、清洗、蚀刻等关键制程不受污染

• 提高晶圆良率与工艺稳定性：防止微污染导致的晶圆缺陷或电性失效

特别是在CMP（化学机械抛光）、光刻前清洗、EUV光刻和高密度封装等高端工艺中，对水中离子的控制已成为工艺成功的前提条件。

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四大品牌推荐：助力半导体洁净制程

在半导体领域，选择高性能、超低杂质释放的离子交换树脂是保障系统稳定与产品可靠性的关键。以下为目前行业内广泛认可的四大品牌推荐：

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安可立（AnClean）

— UP6150 的优质替代选择 —

安可立专注于开发高纯度电子级离子交换树脂，其 ACL-UP1810系列 产品专为半导体与高端PCB制造工艺设计。

• 具备超低TOC释放（<5      ppb）与极低金属离子溶出性能

• 与罗门哈斯      UP6150 树脂性能高度相容，成本低为优质替代品

• 清洗时间短，系统启动快，有效提升水系统稼动率

• 在亚洲市场具备本地化供货与快速技术支持能力

安可立目前正逐步拓展中国大陆市场，为希望降低成本同时保持高质量的客户提供了新的选择。

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罗门哈斯（Rohm and Haas）

— 行业经典产品：UP6150

UP6150 是国际半导体厂广泛使用的标杆级电子级混床树脂，常用于12英寸晶圆厂、EUV制程与先进封装产线。

• 以极低金属溶出和优异稳定性闻名

• 全球晶圆制造巨头长年采用的标准产品

• 支持极端纯度与复杂制程工艺要求

尽管其性能优异，但受限于供应周期、价格与区域服务因素，部分客户逐渐转向安可立等兼容品牌。

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Purolite（普罗莱特）｜英国

作为全球知名高端树脂制造商，Purolite 提供完整的电子级产品线，广泛应用于晶圆厂、面板厂和高端PCB厂。

• 产品通过      SEMI 标准与多个国际验证体系

• TOC控制能力出色，适合用于EUV或后段封装清洗

• 支持多种UPW系统架构（CEDI、混床、RO后端）

其高一致性与全球化供应能力，是许多国际厂商首选合作品牌之一。

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三菱化学（Mitsubishi Chemical）｜日本

三菱化学的 Diaion™ 系列 离子交换树脂在日本与亚洲市场深受欢迎，广泛用于半导体封装、电镀以及化学水处理等领域。

• 具备极佳的粒径均一性与机械强度

• 清洗反应快速，适合高产能制程线

• 化学稳定性高，耐酸碱与高温性能优异

该系列尤其适用于希望在制程中建立更高可靠性标准的客户。

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结语：净水系统虽隐蔽，工艺洁净全靠它

在晶圆制造的世界中，即便是最微小的污染源，都可能引发整批报废。阴阳离子交换树脂虽然不直接参与制程，但它们却是维持整个系统纯度的守护者。选择合适的电子级树脂，不仅能提升良率，还能带来系统维护成本的优化。

在今天，安可立 作为 UP6150 的优质替代品，正在为亚洲乃至全球客户提供更多元且高性价比的解决方案。搭配 罗门哈斯、Purolite、三菱化学 等品牌的经验积累与技术保障，企业可依据自身制程需求灵活选型，打造稳定可靠的超纯水系统。

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